立地企業・施設

(株)イオンテクノセンター

株式会社イオンテクノセンター

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イオンテクノセンターの注入・分析・成膜技術は、エレクトロニクス製品の進化に不可欠な 「半導体デバイス」分野、省エネルギー発電効率を飛躍的に向上させるSiC半導体などの「パワーデバイス」分野、素材・IT・ バイオなど広範な産業の基盤に関わる「ナノテクノロジー」分野、さまざまな工業材料の研究開発において、重要な役割を果たしています。

事業内容 イオン工学に関する研究開発受託、イオン注入加工・各種受託分析、成膜開発インキュベーション
資本金 1,000万円
設立(創業) 2008年6月
代表者 石垣 祐紀
従業員数 15名
住所 大阪府枚方市津田山手2丁目8番1号
TEL 072-859-6611
URL http://www.iontc.co.jp/

 
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