立地企業・施設
株式会社イオンテクノセンター
イオンテクノセンターの注入・分析・成膜技術は、エレクトロニクス製品の進化に不可欠な 「半導体デバイス」分野、省エネルギー発電効率を飛躍的に向上させるSiC半導体などの「パワーデバイス」分野、素材・IT・ バイオなど広範な産業の基盤に関わる「ナノテクノロジー」分野、さまざまな工業材料の研究開発において、重要な役割を果たしています。
| 事業内容 | イオン工学に関する研究開発受託、イオン注入加工・各種受託分析、成膜開発インキュベーション |
| 資本金 | 1,000万円 |
| 設立（創業） | 2008年6月 |
| 代表者 | 石垣 祐紀 |
| 従業員数 | 15名 |
| 住所 | 大阪府枚方市津田山手2丁目8番１号 |
| TEL | 072-859-6611 |
| URL | http://www.iontc.co.jp/ |
